-
Keramiska reservdelar för halvledarprobutrustning
De keramiska reservdelarna, som formas genom kall isostatisk pressning och sintras under hög temperatur, därefter precisionsbearbetas och poleras, kan uppfylla alla strikta krav för halvledarutrustning med sina egenskaper som slitstyrka, korrosionsbeständighet, låg värmeutvidgning och isolering. Keramik kan användas i många typer av halvledarproduktionsutrustning under förhållanden med hög temperatur, vakuum eller korrosiv gas under lång tid.
Tillverkad av högrent aluminiumoxidpulver, bearbetad genom kallisostatisk pressning, högtemperatursintring och precisionsbehandling, kan den nå en dimensionstolerans på ±0,001 mm, ytfinish Ra 0,1, temperaturbeständighet 1600 ℃.
-
Halvledarutrustningsbärare för keramisk platta
De keramiska reservdelarna, som formas genom kall isostatisk pressning och sintras under hög temperatur, därefter precisionsbearbetas och poleras, kan uppfylla alla strikta krav för halvledarutrustning med sina egenskaper som slitstyrka, korrosionsbeständighet, låg värmeutvidgning och isolering. Keramik kan användas i många typer av halvledarproduktionsutrustning under förhållanden med hög temperatur, vakuum eller korrosiv gas under lång tid.
Tillverkad av högrent aluminiumoxidpulver, bearbetad genom kallisostatisk pressning, högtemperatursintring och precisionsbehandling, kan den nå en dimensionstolerans på ±0,001 mm, ytfinish Ra 0,1, temperaturbeständighet 1600 ℃.
-
Reservdelar till halvledarutrustning för keramiska delar
De keramiska reservdelarna, som formas genom kall isostatisk pressning och sintras under hög temperatur, därefter precisionsbearbetas och poleras, kan uppfylla alla strikta krav för halvledarutrustning med sina egenskaper som slitstyrka, korrosionsbeständighet, låg värmeutvidgning och isolering. Keramik kan användas i många typer av halvledarproduktionsutrustning under förhållanden med hög temperatur, vakuum eller korrosiv gas under lång tid.
Tillverkad av högrent aluminiumoxidpulver, bearbetad genom kallisostatisk pressning, högtemperatursintring och precisionsbehandling, kan den nå en dimensionstolerans på ±0,001 mm, ytfinish Ra 0,1, temperaturbeständighet 1600 ℃.
-
Keramisk tätningsring av hög renhet aluminiumoxid för tätning av kammare vid hög temperatur
St.Ceras keramiska tätningsring är utformad som ett alternativ till polymer-O-ringar i extrema miljöer där elastomerer bryts ner. Tillverkad av 99,8 % högren aluminiumoxid (Al₂O₃) används denna styva tätningsring i statiska tätningsapplikationer – vanligtvis i kombination med en mjuk metall- eller grafitpackning – för att ge tillförlitlig vakuum- eller gasinneslutning vid temperaturer upp till 800 °C och i aggressiva plasma- eller kemiska miljöer. Materialet erbjuder noll avgasning, hög tryckhållfasthet (underliggande böjhållfasthet 361 MPa) och kemisk inertitet (beständig mot halogener, syror och alkalier förutom HF). Precisionsöverlappade tätningsytor (planhet ≤5 μm, ytjämnhet Ra ≤0,2 μm) säkerställer läckagetät kontakt med anslutna metall- eller keramiska komponenter.
-
Fokusring i kammare med hög renhet av aluminiumoxid för plasmaetsning och CVD-system
St.Ceras fokusring är en kritisk processkomponent som används i plasmaetsning, CVD och PVD-halvledarutrustning. Ringen är tillverkad av 99,8 % högren aluminiumoxid (Al₂O₃) och omger skivans kant för att begränsa plasmat och optimera jonernas vinkelfördelning, vilket förbättrar etsningens enhetlighet över skivans yta. Materialet erbjuder exceptionell plasmaresistens, hög dielektrisk hållfasthet (15×10⁶ V/m) och termisk stabilitet upp till 1600°C, vilket säkerställer långsiktig tillförlitlighet i aggressiva fluor- eller klorbaserade plasmamiljöer. Precisionsslipad ID/OD och planhet (≤10 μm) möjliggör korrekt positionering av skivans kant, vilket minskar kantdefekter och partikelgenerering.
-
Högren aluminiumoxidkeramisk ring för CVD/PVD-processkamrar
St.Ceras keramiska ring är speciellt utformad för användning i CVD- (kemisk ångdeponering) och PVD- (fysisk ångdeponering) processkamrar. Tillverkad av 99,8 % högren aluminiumoxid (Al₂O₃) fungerar denna ring som kammarfoder, fokusring eller processkitkomponent för att innesluta plasma och skydda kammarväggar från erosion. Materialet erbjuder utmärkt plasmaresistens, hög dielektrisk hållfasthet (15×10⁶ V/m) och termisk stabilitet upp till 1600 °C, vilket säkerställer lång livslängd i aggressiva fluorbaserade plasmamiljöer. Exakta dimensionstoleranser (±0,05 mm på innerdiameter/ytterdiameter) och planhet (≤10 μm) möjliggör konsekvent positionering av skivkanterna, vilket förbättrar deponeringens jämnhet och minskar partikelgenereringen.
-
Bernoulli keramisk ändeffektor — Kontaktlös hantering av wafers för tunna och ömtåliga wafers
St.Ceras Bernoulli keramiska ändeffektor använder aerodynamisk lyftkraft för att hantera wafers utan fysisk kontakt. Tillverkad av högren 99,8 % aluminiumoxid (Al₂O₃) eller kiselkarbid (SiC) har den precisionsbearbetade munstycken som matar ut trycksatt gas för att skapa en tunn luftfilm mellan ändeffektorn och wafern. Denna kontaktfria princip eliminerar kontaminering på baksidan, kantflisning och ytskador, vilket gör den idealisk för tunna (≤100 μm), ömtåliga eller skeva wafers. Det keramiska substratet ger hög böjhållfasthet (361 MPa för Al₂O₃; upp till 550–600 MPa för SiC), låg massa och utmärkt dimensionsstabilitet, vilket säkerställer repeterbar positionering i höghastighetswaferöverföringsrobotar.
-
Högrena aluminiumoxidkeramiska delar för halvledar- och industriella tillämpningar
St.Cera tillverkar precisionsbearbetade keramiska delar av aluminiumoxid (Al₂O₃) enligt kundens specifikationer. Med 99,8 % högren aluminiumoxid ger dessa komponenter utmärkt böjhållfasthet (361 MPa), hög hårdhet (16 GPa) och enastående dielektrisk hållfasthet (15×10⁶ V/m). Materialet är utformat för halvledarutrustning, slitstarka enheter, elektriska isolatorer och högtemperaturarmaturer och erbjuder nästan noll vattenabsorption (0 %) och en värmeutvidgningskoefficient på 7,2×10⁻⁶/℃, vilket säkerställer dimensionsstabilitet under extrema förhållanden.
-
Porös keramisk vakuumchuck för hantering av skeva wafers
St.Ceras porösa keramiska chuck är tillverkad av högren aluminiumoxid med en jämn öppen porositet på 30–45 % och porstorlekar från 10 till 100 μm. Till skillnad från konventionella spårförsedda chuckar ger den porösa ytan ett distribuerat vakuum över hela waferns baksida, vilket effektivt håller skeva, tunna eller singulerade wafers utan att kanten lyfts av eller går sönder. Det skonsamma vakuumet (justerbart via strypventil) förhindrar också märken på baksidan.
-
Aluminiumbaserad porös keramisk vakuumchuck för hantering av tunna skivor
St.Ceras aluminiumoxidbaserade porösa chuck är tillverkad av 99,6 % högrent Al₂O₃ med kontrollerad öppen porositet på 30–45 % och en enhetlig porstorlek från 10 till 50 μm. Till skillnad från spårförsedda chuckar ger den porösa ytan distribuerat vakuum över hela waferns baksida, vilket eliminerar kantmärkning och möjliggör skonsam hantering av ultratunna (≤100 μm) eller skeva wafers. Materialet erbjuder en böjhållfasthet ≥250 MPa och termisk stabilitet upp till 400 °C i luft.
-
Gasfördelningsplatta av aluminiumoxid för CVD/PVD-duschmunstycke
St.Ceras gasfördelningsplatta (duschmunstycke) är precisionsbearbetad av högrenhetskeramik med 99,8 % aluminiumoxid. Den har en uppsättning mikrohål (diametrar 0,3–1,5 mm) som säkerställer ett jämnt gasflöde över skivans yta under CVD-, PVD- eller ALD-processer. Plattans höga dielektriska hållfasthet (>15×10⁶ V/m) och plasmaresistans gör den avgörande för tunnfilmsdeponering av halvledare.
-
Keramisk stödstift för halvledarprocessfixturer
St.Ceras keramiska stödstift (även kända som lyftstift eller stödstift) används i halvledarprocesskamrar för att lyfta wafers eller substrat under hantering, uppvärmning eller kylning. Dessa stift är tillverkade av 99,8 % aluminiumoxid eller kiselnitrid och erbjuder hög tryckhållfasthet, termisk stabilitet och kemisk resistens. Den halvklotformade eller plana spetsdesignen förhindrar repor på wafern.
